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10臺EUV光刻機，456億，外媒：臺積電頂不住了
光刻機受制于人：有技術(shù)也生產(chǎn)不出芯片，華為EUV掃描儀專利有用？
10臺EUV光刻機，456億，外媒：世間再無臺積電
美媒：EUV光刻機時代開始“落幕”了
韓企研發(fā)出石墨烯EUV光罩保護膜，能大幅度提高5nm芯片良率
ASML壓力山大，全球都想繞過EUV光刻機，來制造芯片
突破EUV的替代方案：納米壓印
很遺憾，三種EUV光刻機替代方案，中國都表現(xiàn)不突出
給中國樹立榜樣：被日本制裁后，韓國3年量產(chǎn)EUV光刻膠
不黑不吹，研發(fā)出EUV光刻機，我們也無法順利制造7nm芯片
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