- 不黑不吹，研發(fā)出EUV光刻機，我們也無法順利制造7nm芯片
- 一臺EUV光刻機，年耗電1000萬度，臺積電也要心痛電費
- ASML的哀愁：EUV光刻機將不再是制造高端芯片的唯一選擇
- 多條重磅消息傳出，ASML的EUV光刻機時代正在落幕
- 中國研發(fā)石墨烯芯片，替代硅基芯片，就不需要EUV光刻機了？
- 華為公布一項EUV光刻新專利
- 怕被市場拋棄，ASML急著擴大產(chǎn)能，EUV光刻機提升210%
- 不再需要EUV光刻機 國內(nèi)首條光子芯片產(chǎn)線明年落地
- ASML壓力山大：EUV光刻機，到2nm時或走到盡頭，壟斷不再
- 挑戰(zhàn)ASML的EUV光刻機：美國采用電子束，俄羅斯采用X射線
