- 【進(jìn)展】新研究提出用光為量子自旋“護(hù)航”；中國(guó)科學(xué)院微電子研究所在EUV光刻收集鏡紅外輻射抑制方面取得新進(jìn)展；中國(guó)科學(xué)院國(guó)家納米科學(xué)中心鄢勇團(tuán)隊(duì)在基于離子型神經(jīng)形態(tài)器件構(gòu)筑智能味覺(jué)系統(tǒng)方面取得進(jìn)展
- 可量產(chǎn)0.2nm工藝！ASML公布超級(jí)EUV光刻機(jī)：但死胡同也不遠(yuǎn)了
- 我們彎道超車的機(jī)會(huì)來(lái)了，EUV光刻機(jī)，有了新技術(shù)，更先進(jìn)
- ASML攤牌：1.4nm、0.5nm、0.2nm芯片時(shí)，才要換EUV光刻機(jī)
- ASML要慌：EUV光刻機(jī)新光源出現(xiàn)，成本降50%，功耗降80%
- 中國(guó)芯的好消息：EUV光刻機(jī)沒(méi)有下一代，芯片工藝達(dá)到極限
- 臺(tái)積電認(rèn)慫，還是要買ASML新EUV光刻機(jī)，30億1臺(tái)也得買
- 臺(tái)積電認(rèn)栽了，將購(gòu)買2納米EUV光刻機(jī)，不然搞不定2納米工藝
- ASML：中國(guó)HW/SMEE造不出EUV光刻機(jī)，不擔(dān)心競(jìng)爭(zhēng)
- ASML新EUV光刻機(jī)28億？臺(tái)積電：我不買，不浪費(fèi)錢，2nm一樣造
